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DES系列 顯影/蝕刻/去膜設(shè)備

德中快易腐蝕/顯影/去膜設(shè)備,根據(jù)配置藥液不同,分為 EU / DU / SU系列,用于電路板精密線路蝕刻、高分辨率解析顯影、干膜退膜、表面微蝕、棕化等工藝,也可用于軟板、硬板、軟硬結(jié)合板、微波混合電路、SMT模板、殼體的蝕刻加工。


獨(dú)特的垂直傳動噴淋蝕刻方式,避免了上水平蝕刻的水池效應(yīng),新鮮藥水始終保持與基板接觸,蝕刻速度快,側(cè)蝕小,線路精度高;非接觸蝕刻,避免機(jī)械傳動對光刻膠的破壞。適合陶瓷薄膜電路、微波電路、IC封裝基板蝕刻、顯影等化學(xué)處理過程。傳動噴淋技術(shù),均勻性好,可制作精細(xì)線路。


產(chǎn)品特點(diǎn)

垂直傳動噴淋技術(shù)

采用垂直傳動噴淋技術(shù),均勻性好,可制作細(xì)致50μm的線路

智能傳動次數(shù)設(shè)置

智能傳動次數(shù)設(shè)置,四種工作模式,易用性強(qiáng),無需藥液分析,適合非連續(xù)性生產(chǎn)

設(shè)備專用夾具設(shè)計

專門設(shè)計的非接觸式夾具,柔性材料同樣適用

環(huán)保理念安全性強(qiáng)

無需上下水,遮簾式設(shè)計,環(huán)保及安全性強(qiáng)

產(chǎn)品參數(shù)

技術(shù)參數(shù)

EU/DU/SU/ME400

EU/DU/SU/ME450

EU/DU/SU/ME600

DES300

最小蝕刻/顯影寬度

50μm

25μm

50μm

75μm

最小絕緣寬度

50μm

25μm

50μm

75μm

最大加工幅面(X/Y)

300mm x 400mm

300mm x 400mm

600mm x 600mm

305mm x 230mm

產(chǎn)能

30PNL/h

30PNL/h

20PNL/h

20PNL/h

最大移動速度

28mm/s

28mm/s

28mm/s

-

傳動方式

垂直循環(huán)鏈?zhǔn)?/p>

垂直循環(huán)鏈?zhǔn)?/p>

垂直循環(huán)鏈?zhǔn)?/p>

垂直往復(fù)擺動

噴管排列/數(shù)量

前后各4組

前后各6組

前后各10組

前后各6組

噴嘴排列方式

5/6噴嘴交錯排列

5/6噴嘴交錯排列

11噴嘴交錯排列

5/6噴嘴交錯排列

噴淋壓力

前后各2kg/cm2

前后各2kg/cm2

前后各2kg/cm2

前后各2kg/cm2

溫度范圍

20-60℃

20-60℃

20-55℃

20-60℃

加熱功率

1,000W

2,000W

3,000W

1,000W

功能模塊

蝕刻/顯影/去膜/微蝕,水洗

蝕刻/顯影/去膜/微蝕,水洗

蝕刻/顯影/去膜/微蝕,水洗

蝕刻/顯影/去膜/水洗/微蝕/OSP/干燥


工作環(huán)境

EU/DU/SU/ME400

EU/DU/SU/ME450

EU/DU/SU/ME600

DES300

電源

220VAC/50Hz

380VAC/50Hz

380VAC/50Hz

220VAC/50Hz

功率

2.5kW

2kW

7.5kW

5.2kW

外形尺寸

1,700mm x 650mm x 1,350mm

3,410mm x 1,200mm x 1,900mm

1,800mm x 700mm x 1,450mm

1,340mm x 710mm x 1,000mm

設(shè)備重量

140kg

900kg

430kg

230kg